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J-GLOBAL ID：200903068372611188

マトリックス支援レーザ脱離およびイオン化質量分光分析を使用して電気伝導性領域に隣接する領域のサンプルプレート表面マスクをスキャンする方法

Inventor：
ジョセフ・エル・ディセザール

About ジョセフ・エル・ディセザール


Applicant, Patent owner：
パーキンエルマー・エルエーエス・インコーポレーテッド

About パーキンエルマー・エルエーエス・インコーポレーテッド


Agent (4)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006514178
Publication number (International publication number)：2006525520
Application date： Apr. 30, 2004
Publication date： Nov. 09, 2006
Summary：
質量分光分析を使用して電気伝導性領域に隣接するサンプルプレート表面マスクをスキャンする方法が開示される。この方法は、電気伝導性の表面に粗い表面を用いて塗布されたマスクを含むサンプルプレートを提供し、電気伝導性の表面からなる中央部分とマスクのマージン部分とを有するサンプルサイトを提供するステップと、生物分子に有機溶媒、水溶液、およびα-シアノ-4-ヒドロキシ桂皮酸および3,5-ジメトキシ-4-ヒドロキシ桂皮酸のグループから選択されたマトリクスを混合する段階を備えた検体を準備するステップと、前記検体の少なくとも1つの結晶を電気伝導性領域に隣接するマスクの一領域に形成するステップと、レーザビームを用いて前記電気伝導性領域に隣接するマスク上の領域をスキャンするステップと、を有する。
Claim (excerpt)：
電気伝導性の表面に粗い表面を用いて塗布されたマスクを含むサンプルプレートを提供し、電気伝導性の表面からなる中央部分とマスクのマージン部分とを有するサンプルサイトを提供するステップと、 少なくとも1つの検体と少なくとも1つのマトリクスを接触させる段階を備え、標本を準備するステップと、 前記サンプルサイトに標本を塗布するステップと、 前記検体の少なくとも1つの結晶を前記電気伝導性領域に隣接するマスクの一領域に形成するステップと、 レーザビームを用いて前記電気伝導性領域に隣接するマスク上の領域をスキャンするステップと、 を有することを特徴とする、質量分光分析を使用して電気伝導性領域に隣接するサンプルプレート表面マスクをスキャンする方法。
IPC (4)：
G01N 27/64 ,  H01J 49/12 ,  H01J 49/04 ,  G01N 27/62
FI (5)：
G01N27/64 B ,  H01J49/12 ,  H01J49/04 ,  G01N27/62 V ,  G01N27/62 X
F-Term (11)：
2G041CA01 ,  2G041DA04 ,  2G041EA04 ,  2G041FA10 ,  2G041FA11 ,  2G041FA12 ,  2G041JA07 ,  2G041JA08 ,  5C038EE03 ,  5C038EF17 ,  5C038GG07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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