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J-GLOBAL ID：200903068391340411
フォトマスク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996236652
Publication number (International publication number)：1998083070
Application date： Sep. 06, 1996
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：
【要約】【課題】 フォトマスクに関し、ペリクルフレームの接着によるフォトマスクのたわみを低減することを目的とする。【解決手段】 ペリクル膜を支持するペリクルフレームが接着されたフォトマスクであって、フォトマスク面上でペリクルフレームの接着面を含む領域に金属膜が形成され、該ペリクルフレームは該金属膜を介してフォトマスクに接着されるように構成する。
Claim (excerpt)：
ペリクル膜を支持するペリクルフレームが接着されたフォトマスクであって、フォトマスク面上でペリクルフレームの接着面を含む領域に金属膜が形成され、該ペリクルフレームは該金属膜を介してフォトマスクに接着されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2)：
FI (2)：
G03F 1/14 J
, H01L 21/30 502 P
