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J-GLOBAL ID：200903068403651477

フォトソルダーレジスト

Inventor： 岡崎 栄一 ,  太田 博之
Applicant, Patent owner： 東亞合成株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994287118
Publication number (International publication number)：1996123028
Application date： Oct. 28, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】 未硬化皮膜がアルカリ水溶液に易溶性でかつ活性エネルギー線に対して高感応性であり、しかも硬化皮膜が硬度、密着性、耐熱性、耐溶剤性および耐薬品性に優れるフォトソルダーレジストの提供。【構成】 (a)ペンタエリスリトール、(b)非芳香族カルボン酸無水物および(c)(メタ)アクリル酸を(a):(b):(c)=2:(0.8〜1.2):(4.0〜5.6)(モル比)の割合で反応させてなるペンタエリスリトール誘導体とカルボン酸無水物を反応させて得られる、酸価が40〜100mgKOH/gの重合性組成物からなるフォトソルダーレジスト。

Claim (excerpt)：

(a)ペンタエリスリトール、(b)非芳香族カルボン酸無水物および(c)(メタ)アクリル酸を(a):(b):(c)=2:0.8〜1.2:4.0〜5.6(モル比)の割合で反応させてなるペンタエリスリトール誘導体とカルボン酸無水物を反応させて得られる、酸価が40〜100mgKOH/gの重合性組成物からなるフォトソルダーレジスト。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/28