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J-GLOBAL ID：200903068431024488

レーザ同調方法及びレーザ同調装置

Inventor：
エンメリッヒ・ミュラー

About エンメリッヒ・ミュラー


Applicant, Patent owner：
アジレント・テクノロジーズ・インク

About アジレント・テクノロジーズ・インク


Agent (1)： 奥山 尚一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002161459
Publication number (International publication number)：2003023197
Application date： Jun. 03, 2002
Publication date： Jan. 24, 2003
Summary：
【要約】【課題】 製造及び管理コストが低く高精度なレーザ同調方法及びレーザ同調装置を提供する。【解決手段】 外部キャビティ2のキャビティ端部要素6と同調要素8との間の経路にレーザビームを供給するステップと、前記レーザの前記経路内に分散要素10を導入することによって前記レーザの少なくとも1つのモードを選択するステップと、前記レーザを同調するために、キャビティ端部要素6と、分散要素10と、同調要素8との表面平面の交点によって理論的に定義されるピボット軸14の回りに同調要素8を回転させるステップと、ピボット軸14の前記実際の位置と前記理論的に定義される位置との間の傾きを少なくとも部分的に補償するために、分散要素10を移動させるステップとを含んでなるレーザ同調方法およびレーザ同調装置を提供する。
Claim (excerpt)：
外部キャビティのキャビティ端部要素と同調要素との間の経路にレーザビームを供給するステップと、前記レーザの前記経路内に分散要素を導入することによって前記レーザの少なくとも1つのモードを選択するステップと、前記レーザを同調させるために、前記キャビティ端部要素の表面平面と、前記分散要素の表面平面と、前記同調要素の表面平面との交点によって理論的に定義されるピボット軸の回りに前記同調要素を回転させるステップと、前記ピボット軸の実際の位置と前記理論的に定義される位置との間の傾きを少なくとも部分的に補償するために、前記分散要素を移動させるステップとを含んでなるレーザ同調方法。
F-Term (5)：
5F072HH05 ,  5F072KK05 ,  5F072KK07 ,  5F072MM14 ,  5F072MM17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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