Pat
J-GLOBAL ID:200903068451851232

シリコーンゴム積層体及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996250949
Publication number (International publication number):1998076606
Application date: Sep. 02, 1996
Publication date: Mar. 24, 1998
Summary:
【要約】【解決手段】 カーボンブラックを含有する導電性シリコーンゴム硬化層と、絶縁性シリコーンゴム硬化層とを積層一体化したシリコーンゴム積層体において、上記絶縁性シリコーンゴム硬化層を(a)下記平均組成式(1) RaSiO(4-a)/2 ...(1)で表され、1分子中にアルケニル基を2個以上含み、重合度が200以上であるオルガノポリシロキサンと、(b)補強性シリカと、(c)下記一般式(2)で表される有機過酸化物とを含有してなる絶縁性シリコーンゴム組成物の硬化体で形成したことを特徴とするシリコーンゴム積層体。【化1】【効果】 本発明のシリコーンゴム積層体は導電性シリコーンゴム硬化層と絶縁性シリコーンゴム硬化層との接着性に優れ、ゼブラコネクターやコンタクトラバー等、電気、電子部品の接点材料などとして信頼性の高いものである。また、本発明の製造方法によれば、上記シリコーンゴム積層体を確実かつ容易に製造することができる。
Claim (excerpt):
カーボンブラックを含有する導電性シリコーンゴム硬化層と、絶縁性シリコーンゴム硬化層とを積層一体化したシリコーンゴム積層体において、上記絶縁性シリコーンゴム硬化層を(a)下記平均組成式(1) RaSiO(4-a)/2 ...(1)(式中、Rは水酸基又は置換もしくは非置換の一価炭化水素基を示すが、Rの0.0001〜0.5モル%はアルケニル基である。aは1.95〜2.05の正数を示す。)で表され、1分子中にアルケニル基を2個以上含み、重合度が200以上であるオルガノポリシロキサンと、(b)補強性シリカと、(c)下記一般式(2)で表される有機過酸化物と【化1】を含有してなる絶縁性シリコーンゴム組成物の硬化体で形成したことを特徴とするシリコーンゴム積層体。
IPC (4):
B32B 25/20 ,  C08K 3/36 KCX ,  C08K 5/14 KDD ,  C08L 83/07 LRP
FI (4):
B32B 25/20 ,  C08K 3/36 KCX ,  C08K 5/14 KDD ,  C08L 83/07 LRP

Return to Previous Page