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J-GLOBAL ID：200903068484613345

エチレン系共重合体の製造方法

Inventor： 井上 則英 ,  神野 政弘 ,  潮村 哲之助
Applicant, Patent owner： 三井東圧化学株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993130758
Publication number (International publication number)：1994049132
Application date： Jun. 01, 1993
Publication date： Feb. 22, 1994
Summary：

【要約】【構成】 (A)式I【化1】(ここで、A1 ,A2 はシクロペンタジエニル基など、A3 ,A4 は炭素数1〜10までのアルキル基など、QはA1 ,A2 を連結する炭素数2〜10までの炭化水素基などであり、A3 ,A4 及びQの間で環を形成してもよい、R1 ,R2はハロゲン原子など、Mはジルコニウムなどである。)で表される遷移金属化合物、及び(B)助触媒から形成される触媒の存在下、エチレンと芳香族ビニル化合物を共重合させるエチレン系共重合体の製造方法。【効果】 効率よくエチレン-芳香族ビニル共重合体を製造することができる。

Claim (excerpt)：

(A)式I【化1】(ここで、A1 及びA2 は非置換又は置換シクロペンタジエニル基、インデニル基又はフルオレニル基であり、A3 及びA4 は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又はそれぞれ炭素数6〜20のアリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基もしくはハロゲン化アリール基、又は酸素、窒素、硫黄もしくは珪素から選ばれたヘテロ原子を含む炭素数1〜20の炭化水素基であり、QはA1 及びA2 を連結する炭素数2〜10の炭化水素基または珪素、ゲルマニウムもしくは錫を含む炭素数1〜10の炭化水素基、又は炭素、ケイ素、ゲルマニウムもしくは錫原子であり、またA3 及びA4 は互いに連結していてA3 ,A4 及びQの間で環構造を形成していてもよい、R1 及びR2 はハロゲン原子、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、それぞれ炭素数6〜20のアリール基、アルキルアリール基もしくはアリールアルキル基であり、かつMはチタン、ジルコニウム又はハフニウムである。)で表される遷移金属化合物、及び(B)助触媒から形成される触媒の存在下、エチレンと芳香族ビニル化合物を共重合させることを特徴とするエチレン系共重合体の製造方法。

IPC (3)：

C08F210/02 MJR ,  C08F 4/642 MFG ,  C08F 10/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-096908
  
• 特開平3-234711
  
• 特開平3-234710