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J-GLOBAL ID：200903068488779299

クラスタ型ホトリソグラフィシステム

Inventor： マイケル エル. パロディ ,  マイケル アール. ビッシュ
Applicant, Patent owner： セミコンダクタ システムズ, インコーポレイテッド
Agent (1)： 小橋 一男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994165361
Publication number (International publication number)：1995169678
Application date： Jul. 18, 1994
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ウエハのコーティング及び/又は現像を行なうための極めて小型でコスト効率的なホトリソグラフィシステム及び方法を提供する。【構成】 基板ホトリソグラフィシステムは、固定点周りを回動し且つホトレジストコーティングユニットと、現像ユニットと、加熱/冷却ユニットとの間で基板を移送する基板操作ロボットを有している。これらの全てのユニットはロボットの周りにクラスタ状に配設されている。ロボットの端部エフェクタが垂直方向及び水平方向に移動可能であり、従って加熱/冷却ユニットの個々のモジュールを積層させることが可能である。

Claim (excerpt)：

ホトリソグラフィシステムにおいて、少なくとも1個のスピンコーティングユニット、少なくとも1個のベーキングユニット、固定軸周りに回動可能であり且つ前記少なくとも1個のスピンコーティングユニット及び前記少なくとも1個のベーキングユニットへ基板を送給するか又はそれから基板を回収することの可能な少なくとも1個の基板操作ロボット、を有することを特徴とするホトリソグラフィシステム。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/68

FI (2)：

H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/30 564 C