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J-GLOBAL ID：200903068497333309

整髪剤用基剤

Inventor： 内山 雄二朗
Applicant, Patent owner： 大阪有機化学工業株式会社
Agent (1)： 朝日奈 宗太 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999220201
Publication number (International publication number)：2001048755
Application date： Aug. 03, 1999
Publication date： Feb. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】 カチオン性整髪剤用基剤の利点は損なわず、しかもきしみ感がなく、光沢もよく、セット時の風合いにすぐれた整髪剤用基剤を提供すること。【解決手段】 式(I):【化10】(XはOまたはNH、R1はHまたはCH3、R2はCが2〜3のアルキレン基)で表わされるモノマー(A)1〜30重量%、式(II):【化11】(X、R1、R2は前記と同じ)で表わされるモノマー(B)1〜30重量%ならびに式(III):【化12】(R1は前記と同じ)で表わされるモノマー(C-1)および/またはN-ビニルピロリドン(C-2)40〜90重量%のモノマー成分を重合させたコポリマーからなる整髪剤用基剤。

Claim (excerpt)：

(A)一般式(I):【化1】(式中、Xは酸素原子またはNH基、R1は水素原子またはメチル基、R2は炭素数2〜3のアルキレン基を示す)で表わされるモノマー(A)1〜30重量%、(B)一般式(II):【化2】(式中、Xは酸素原子またはNH基、R1は水素原子またはメチル基、R2は炭素数2〜3のアルキレン基を示す)で表わされるモノマー(B)1〜30重量%、ならびに(C)一般式(III):【化3】(式中、R1は水素原子またはメチル基を示す)で表わされるモノマー(C-1)およびN-ビニルピロリドン(C-2)から選ばれた少なくとも1種のモノマー(C)40〜90重量%を含有したモノマー成分を重合させて得られたコポリマーからなる整髪剤用基剤。

IPC (4)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/11 ,  C08F220/34 ,  C08F226/02

FI (4)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/11 ,  C08F220/34 ,  C08F226/02

F-Term (29)：

4C083AC011 ,  4C083AC102 ,  4C083AD071 ,  4C083AD072 ,  4C083CC32 ,  4C083DD23 ,  4C083EE06 ,  4C083EE21 ,  4J100AJ02S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08S ,  4J100AL09S ,  4J100AM15S ,  4J100AM19Q ,  4J100AM21P ,  4J100AM21Q ,  4J100AM21S ,  4J100AN06R ,  4J100AQ08R ,  4J100BA03S ,  4J100BA08S ,  4J100BA12S ,  4J100BA31Q ,  4J100BA31S ,  4J100BA32P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100FA03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-091016
  
• 特開昭63-196604
  
• 特開昭56-092809