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J-GLOBAL ID:200903068510795945

排気ガス処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992025604
Publication number (International publication number):1993220340
Application date: Feb. 13, 1992
Publication date: Aug. 31, 1993
Summary:
【要約】【目的】 可変繰返し周波数の短パルスグロー放電を利用することにより、脱硝率の向上を図る。【構成】 排気ガスが流通する処理容器内に対設された電極に高電圧パルスを印加し、この高電圧パルスの周波数をガス流量又はガス濃度に応じて制御する。
Claim (excerpt):
排気ガスが内部を流通する処理容器と、前記排気ガスの流通路にそれぞれ配設された流量計およびガスセンサと、前記処理容器内に取付けられる少なくとも一対のプラズマ発生用電極とこの一対のプラズマ発生用電極に高電圧パルスを印加する高電圧パルス電源と、前記流量計の検出信号又はガスセンサの検出信号に応じて前記高電圧パルス電源のパルス出力周波数を制御するパルス制御部によって構成したことを特徴とする排気ガス処理装置。
IPC (3):
B01D 53/34 129 ,  B01D 53/30 ,  B01D 53/32

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