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J-GLOBAL ID：200903068519715685

位相シフト層を有するフォトマスクの修正方法

Inventor： 多賀谷大 ,  荒井祐美 ,  高橋洋一
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992287689
Publication number (International publication number)：1994138647
Application date： Oct. 26, 1992
Publication date： May. 20, 1994
Summary：

【要約】【目的】 位相シフトレチクルの光透過領域に残存若しくは欠落した位相シフター欠陥に遮光部を形成して、ステッパーの解像限界以下にして、転写しないようにする。【構成】 フォトマスクの光通過領域に残存若しくは欠落している位相シフター欠陥6上に、投影露光装置の解像限界以下の遮光部7を形成して、この遮光部7により、位相シフト効果による光強度比の向上効果を抑制して、レジストパターンを解像するほどに位相シフト効果が生じなくさせて、欠陥が転写しないようにする。

Claim (excerpt)：

位相シフト層を有するフォトマスクの修正方法において、フォトマスクの光通過領域に残存若しくは欠落している位相シフター欠陥上に、投影露光装置の解像限界以下の遮光部を形成して、前記欠陥が転写しないようにすることを特徴とする位相シフト層を有するフォトマスクの修正方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/302