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J-GLOBAL ID：200903068545747781

減圧用インダクションプラズマトーチ

Inventor： 四方 邦夫 ,  エミリオ 藤原 ,  山地 信幸 ,  岡田 順 ,  橘 秀久 ,  村田 裕康
Applicant, Patent owner： 株式会社三社電機製作所
Agent (1)： 田中 浩 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992093681
Publication number (International publication number)：1993263211
Application date： Mar. 18, 1992
Publication date： Oct. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 インダクションプラズマトーチによる粉体の溶融、溶射において、トーチ構成部材に損傷を与えることなく均質な溶射を行なう。【構成】 内側からキャリアガス導入管5、中間管4、外側管3の順に配置され、外側管3の外側に冷却管6を有し、冷却管6の外周に高周波誘導コイル13を配設した構成のトーチ1であって、外側管3、中間管4、キャリアガス導入管5を窒化硅素焼結体製とすることによって、冷却管6と外側管3との間の冷却媒体通路に冷却水を供給しても外側管3の損傷がなく、またトーチ1を支持するトーチ支持下部フランジ7と上部フランジ17を3本のロッド棒14で支持固定することで高周波誘導コイル13の取付けおよび移動を容易とした。

Claim (excerpt)：

窒化硅素焼結体を素材とした外側管、中間管、キャリアガス導入管および耐熱ガラス製の冷却管と、この冷却管の外周に配置した高周波誘導コイルとから構成されたプラズマトーチであって、上記外側管の下端がトーチ下方に連接されている減圧チャンバー内に臨むように該外側管の下方をトーチ支持下部フランジおよびそれに係合する外側管支持下部リングにて支持し、上記外側管、中間管、キャリアガス導入管および冷却管の上部が順次夫々の支持リングとOリングにて支持、シールされるとともに、これらの支持リングは互いに係合して直接または間接にトーチ支持上部フランジに支持されていることを特徴とする減圧用インダクションプラズマトーチ。

IPC (2)：

C23C 4/00 ,  H05H 1/30