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J-GLOBAL ID：200903068573932209

ナノ粒子の製造方法及び製造装置、並びにナノ粒子の保存方法

Inventor： 川上 友則 ,  李 博 ,  平松 光夫
Applicant, Patent owner： 浜松ホトニクス株式会社
Agent (4)： 長谷川 芳樹 ,  塩田 辰也 ,  寺崎 史朗 ,  長濱 範明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002255973
Publication number (International publication number)：2004089890
Application date： Aug. 30, 2002
Publication date： Mar. 25, 2004
Summary：

【課題】高効率なナノ粒子化を実現できるナノ粒子の製造方法及び製造装置並びにナノ粒子の保存方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、懸濁粒子で懸濁された被処理液8のレーザ光照射部位2aにレーザ光を照射しレーザ光照射部位2aでの懸濁粒子を粉砕してナノ粒子を製造するナノ粒子製造方法において、被処理液8のレーザ光照射部位2aを冷却する。この場合、被処理液8が冷却されることで各懸濁粒子が全体にわたって冷却される。この被処理液8の部位2aにレーザ光を照射すると、その部位2aにおいて懸濁粒子の表面でレーザ光が吸収される。このとき、被処理液8は冷却されているため、レーザ光照射部位2aにおいては、懸濁粒子の内部と表面、及び懸濁粒子の表面と被処理液との間に顕著な温度差が生じ、高効率なナノ粒子化が実現される。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

懸濁粒子で懸濁された被処理液のレーザ光照射部位にレーザ光を照射することにより前記レーザ光照射部位における前記懸濁粒子を粉砕してナノ粒子を製造するナノ粒子製造工程を含むナノ粒子の製造方法において、 前記レーザ光照射部位にレーザ光を照射する前に、前記被処理液の前記レーザ光照射部位を冷却することを特徴とするナノ粒子の製造方法。

IPC (3)：

B01J19/12 ,  B02C19/00 ,  H01S3/00

FI (3)：

B01J19/12 H ,  B02C19/00 Z ,  H01S3/00 A

F-Term (16)：

4D067CG06 ,  4D067GA20 ,  4G075AA27 ,  4G075BB10 ,  4G075CA03 ,  4G075CA36 ,  4G075DA02 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  5F072AA04 ,  5F072AA06 ,  5F072AB02 ,  5F072RR05 ,  5F072SS06 ,  5F072YY20