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J-GLOBAL ID：200903068581432339

レジスト組成物

Inventor： 高橋 表 ,  水谷 一良 ,  安波 昭一郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002261401
Publication number (International publication number)：2004101706
Application date： Sep. 06, 2002
Publication date： Apr. 02, 2004
Summary：

【課題】活性光線又は放射線、特に電子線、X線又はEUV光の照射によるパターン形成に関して、パターンプロファイル、ビーム形状再現性、解像力に優れたレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A1)特定の部分構造と、対アニオンとを有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(A2)特定の部分構造と、対アニオンとを有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有し、且つ(A1)成分の対アニオンと(A2)成分の対アニオンとが異なることを特徴とするレジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A1)下記一般式(1)で表される部分構造と、対アニオンとを有する、活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物、(A2)下記一般式(I)、(II)又は(III)で表される部分構造と、対アニオンとを有する、活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物、 (B)アルカリ可溶性樹脂及び (C)酸の作用により(B)成分のアルカリ可溶性樹脂と付加反応をする架橋剤を含有し、 且つ(A1)成分の対アニオンと(A2)成分の対アニオンとが異なる ことを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (21)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB15 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17