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J-GLOBAL ID:200903068583594727
導体ペースト及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小玉 秀男 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001046220
Publication number (International publication number):2002245874
Application date: Feb. 22, 2001
Publication date: Aug. 30, 2002
Summary:
【要約】【課題】 緻密な構造の膜状導体をセラミック基材に形成し得る導体ペースト及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 上記課題を解決する導体形成用粉末材料を主成分とする導体ペーストの製造方法は、その導体形成用粉末材料を調製する工程と、該粉末材料をビヒクルに分散する工程とを包含する。そして、その導体形成用粉末材料の調製は、当該粉末材料の主体を成す所定の粒度分布及び平均粒径を有する略球状の導電性金属粉末に対し、その導電性金属粉末とは粒度分布が異なり且つその平均粒径が当該導電性金属粉末の平均粒径の4分の1以下である一種又は二種以上の略球状の金属粉末及び/又はセラミック粉末を添加することによって行われる。
Claim (excerpt):
導体形成用粉末材料を主成分とする導体ペーストを製造する方法であって、その導体形成用粉末材料を調製する工程と、該粉末材料をビヒクルに分散する工程とを包含し、その導体形成用粉末材料の調製は、該粉末材料の主体を成す所定の粒度分布及び平均粒径を有する略球状の導電性金属粉末に対し、導体ペーストをセラミック基材に塗布したときの乾燥塗膜における該粉末材料の充填率が該導電性金属粉末のみから成る場合の導体形成用粉末材料の充填率よりも高くなる分量で、該導電性金属粉末とは粒度分布が異なり且つその平均粒径が該導電性金属粉末の平均粒径の略4分の1以下である一種又は二種以上の略球状の金属粉末及び/又はセラミック粉末を添加することによって行われる、導体ペースト製造方法。
IPC (4):
H01B 13/00 503
, H01B 1/00
, H01B 1/22
, H01G 4/12 361
FI (5):
H01B 13/00 503 C
, H01B 1/00 K
, H01B 1/00 L
, H01B 1/22 A
, H01G 4/12 361
F-Term (14):
5E001AB03
, 5E001AC09
, 5E001AH01
, 5E001AJ01
, 5G301DA03
, 5G301DA05
, 5G301DA06
, 5G301DA10
, 5G301DA11
, 5G301DA12
, 5G301DA33
, 5G301DA42
, 5G301DD01
, 5G301DE01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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銅導体ペーストおよび銅導体膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-173435
Applicant:三ツ星ベルト株式会社, 奥野製薬工業株式会社
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端子電極ペースト、積層電子部品、およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-293022
Applicant:松下電器産業株式会社
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特開平1-095170
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