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J-GLOBAL ID:200903068602150495

基板処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 五十嵐 孝雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995351771
Publication number (International publication number):1997181143
Application date: Dec. 26, 1995
Publication date: Jul. 11, 1997
Summary:
【要約】【課題】 オンライン処理とオフライン処理の切り替えによるスループットの低下を低減する。【解決手段】 基板処理装置の複数のインデクサステージの少なくとも1つを、外部の管理ステーションとの通信を行ないつつ管理ステーションの管理下で基板の処理を実行するオンライン処理モードに設定し、複数のインデクサステージの他の少なくとも1つを、管理ステーションとの通信を行なわずに基板の処理を実行するオフライン処理モードに設定する。そして、オンライン処理モードに設定されたインデクサステージに載置された第1のカセット内の基板の処理と、オフライン処理モードに設定されたインデクサステージに載置された第2のカセット内の基板の処理とを並行して実行させる。
Claim (excerpt):
処理対象の基板を予め設定された搬送経路に従って複数の処理ユニットに順次搬送しつつ処理する基板処理装置であって、外部の管理ステーションとの通信を行なうための通信手段と、前記管理ステーションとの通信を行ないつつ、前記管理ステーションの管理下で基板の処理を実行するオンライン処理実行手段と、前記管理ステーションとの通信を行なわずに基板の処理を実行するオフライン処理実行手段と、それぞれ複数の基板を収納する複数のカセットを載置するための複数のインデクサステージと、前記複数のインデクサステージの少なくとも1つをオンライン処理モードに設定し、前記複数のインデクサステージの他の少なくとも1つをオフライン処理モードに設定する設定手段と、前記オンライン処理モードに設定されたインデクサステージに載置された第1のカセット内の基板の処理と、前記オフライン処理モードに設定されたインデクサステージに載置された第2のカセット内の基板の処理とを、前記基板処理装置内で並行して実行させる制御手段と、を備える基板処理装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 特開平3-274746
  • 基板処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-071036   Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平4-113612
Cited by examiner (3)
  • 特開平3-274746
  • 基板処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-071036   Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平4-113612

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