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J-GLOBAL ID：200903068611383621

ポリシロキサン、ポリシロキサン組成物、絶縁膜の製造方法、着色部材の製造方法及び導電膜の製造方法

Inventor： 早瀬 修二 ,  御子柴 智 ,  中野 義彦 ,  可児 利佳子
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 外川 英明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995196312
Publication number (International publication number)：1997040779
Application date： Aug. 01, 1995
Publication date： Feb. 10, 1997
Summary：

【要約】【目的】 基板の歪みを招くことなく可撓性の高い絶縁膜等を形成することや、アルカリ現像で所望の膜パターンを形成することが可能なポリシロキサン及びポリシロキサン組成物の提供。【構成】 下記一般式(1)で表される繰返し単位を有するポリシロキサンに対し、光酸発生剤を配合する。【化1】

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表される繰返し単位を有することを特徴とするポリシロキサン。【化1】

IPC (5)：

C08G 77/14 NUG ,  C08L 83/06 LRT ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/075 511

FI (5)：

C08G 77/14 NUG ,  C08L 83/06 LRT ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/075 511