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J-GLOBAL ID：200903068643917881

ネガ型フオトレジスト組成物

Inventor： 吉本 洋 ,  上西 一也 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992149392
Publication number (International publication number)：1993341522
Application date： Jun. 09, 1992
Publication date： Dec. 24, 1993
Summary：

【要約】【目的】 光分解の感度が高い酸発生剤を含み、感度が高くかつ高解像力が得られ、貯蔵安定性が良く、更に現像残りが発生しにくいネガ型感光性組成物を提供する。【構成】 ネガ型フォトレジスト組成物が、光酸発生剤として一般式(I)で示される感光性s-トリアジン化合物、酸架橋性物質、及びアルカリ可溶性樹脂を含有してなる。【化1】

Claim (excerpt)：

一般式(I)で示される感光性s-トリアジン化合物、酸架橋性物質、及びアルカリ可溶性樹脂を含有することを特長とするネガ型フオトレジスト組成物。【化1】一般式(I)において、R1,R2は互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、もしくは一般式(II)もしくは一般式(III)で示される基を表し、R1,R2はそれが結合せる窒素原子と共に非金属原子からなる異節環を形成しても良い。R3,R4は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基もしくはアルコキシ基を表す。X,Yは互いに同じでも異なっていてもよく、塩素原子もしくは臭素原子を示す。m,nは0,1または2を表す。【化2】一般式(II)においてR5は、アルキル基、置換アルキル基、アリール基もしくは置換アリール基を表し、一般式(III)において、R6,R7は互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基もしくは置換アリール基を表す。

IPC (4)：

G03F 7/029 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027