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J-GLOBAL ID：200903068678404208

高濃度汚水の処理装置及び処理方法

Inventor： 徳永 定雄 ,  福住 雄幸
Applicant, Patent owner： 株式会社シー・ピー・アール
Agent (1)： 西 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997368198
Publication number (International publication number)：1999188381
Application date： Dec. 26, 1997
Publication date： Jul. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】 高濃度汚水の浄化とともに処理中に生成する汚泥の大幅な減量を可能にした処理装置および処理方法を得ることを課題とする。【解決手段】 複数の曝気槽を用いる高濃度汚水の処理方法において、複数段を形成する各曝気槽への新規な汚水の流入ないし投入及び処理水の移送を停止した状態で、多量の空気を散気しながらかつ槽内の処理水にフロックが形成されるのを妨げる撹拌を行いながら、所定時間の処理を行い、所定時間の処理終了後、所定量の菌の残留に必要な量を残した処理水の全量を、各曝気槽に沈澱した汚泥を含めて後段の処理槽に一括して移送する処理を繰り返す。汚水が継続的に流入ないし投入されるときは、第1段の曝気槽を2槽一組にし交互に用いる。複数段設けた曝気槽のうちの一部又は全部の槽を加温し、かつ当該槽に人工的に選別培養した同種又は異種の菌を投入することがより効果的である。

Claim (excerpt)：

複数段の曝気槽を備えた高濃度汚水の処理装置において、複数段を形成する各曝気槽が浮遊物のフロック形成を妨げ得る撹拌力を有する攪拌手段と散気手段とを併せ備え、かつ所定量の処理水を後段の処理槽に、所定の処理時間間隔で移送する移送手段を備えていることを特徴とする、高濃度汚水の処理装置。

IPC (3)：

C02F 3/12 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/10

FI (4)：

C02F 3/12 M ,  C02F 3/12 B ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/10 Z