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J-GLOBAL ID：200903068751143990
誘導とりベ及び真空炉のための加熱装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993247335
Publication number (International publication number)：1994251864
Application date： Sep. 09, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：
【要約】【目的】 誘導コイル組立体によって形成される電磁界が炉内で加熱される物質にさらに効果的に加えられることを可能にする誘導炉を提供する。【構成】 本発明の誘導加熱炉10は、コイル20と上部継鉄28と下部継鉄34と中間継鉄40とをもつ誘導コイル組立体16と、炉により加熱される金属を入れる坩堝を支持し誘導コイル組立体16に接触せずに囲まれている金属殻14をもつとりべ12と、から構成される。とりべ12は容易に誘導コイル組立体16から取り出しできるので加熱した金属が動作ステーションの間を便利かつ確実に移動できる。
Claim (excerpt)：
(a)中心軸と所定の軸方向に延長する長さとをもち、かつコイルと上部継鉄と下部継鉄と中間継鉄とを有する誘導コイル組立体と、(b)所定の形状をもつ坩堝と前記坩堝を囲み且つその前記形状とほぼ一致する殻とを有する、誘導加熱炉によって加熱されるべき物質を保持するための手段と、を有する誘導加熱炉であって、前記上部継鉄と前記下部継鉄とは、所定の距離だけ互いから軸方向に分離されて前記中間継鉄により電磁気的に共に結合され、前記殻が、非磁性材料のバーから構成され、前記誘導コイル組立体によって囲まれているがこれと接触しないように配置され、前記上部継鉄と前記下部継鉄の両方を共にそれぞれ各所定の距離だけ過ぎて延長する、前記誘導加熱炉。
IPC (4)：
H05B 6/24
, F27B 3/08
, F27B 14/06
, F27D 11/06
Cited by examiner (8)
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