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J-GLOBAL ID：200903068768932572

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜

Inventor： 加藤 英人 ,  上田 貴史 ,  降籏 智欣
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000276897
Publication number (International publication number)：2002088158
Application date： Sep. 12, 2000
Publication date： Mar. 27, 2002
Summary：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量500〜200,000のオルガノシロキサン系高分子化合物。【化1】(式中、Rl〜R4は同一でも異なってもよい炭素数1〜8の1価炭化水素基を示す。また、nは1〜1000の整数である。)【効果】 本発明の新規なオルガノシロキサン系高分子化合物を使用することにより、幅広い波長の光で露光でき、且つ酸素障害を受けず容易に薄膜を形成することが可能な光硬化性樹脂組成物を製造することができる。更に、耐ドライエッチング性に優れた微細なパターンを形成することが可能であり、更にこの組成物から得られる硬化皮膜は基材との密着性、耐熱性、電気絶縁性に優れ、電気、電子部品、半導体素子等の保護膜として好適に用いられる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量500〜200,000のオルガノシロキサン系高分子化合物。【化1】(式中、Rl〜R4は同一でも異なってもよい炭素数1〜8の1価炭化水素基を示す。また、nは1〜1000の整数である。)

IPC (7)：

C08G 77/52 ,  C08G 8/38 ,  C08G 12/46 ,  C08G 59/62 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/075 521 ,  H05K 3/28

FI (7)：

C08G 77/52 ,  C08G 8/38 ,  C08G 12/46 ,  C08G 59/62 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/075 521 ,  H05K 3/28 D

F-Term (49)：

2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CA48 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025DA02 ,  2H025DA40 ,  4J033CA02 ,  4J033CA12 ,  4J033CA19 ,  4J033EA12 ,  4J033EA45 ,  4J033HA02 ,  4J033HB10 ,  4J035BA02 ,  4J035CA01M ,  4J035CA02U ,  4J035CA021 ,  4J035CA08M ,  4J035CA081 ,  4J035CA13U ,  4J035CA131 ,  4J035HA02 ,  4J035HB05 ,  4J035LA03 ,  4J035LB16 ,  4J036AA01 ,  4J036DA05 ,  4J036DB05 ,  4J036FB08 ,  4J036FB16 ,  4J036GA22 ,  4J036GA24 ,  4J036GA25 ,  4J036GA26 ,  4J036HA02 ,  4J036JA09 ,  5E314AA27 ,  5E314GG03 ,  5E314GG08 ,  5E314GG11