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J-GLOBAL ID：200903068782614540

化学増幅ポジ型レジスト材料

Inventor： 大澤 洋一 ,  渡辺 淳 ,  武田 隆信 ,  関 明寛
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001057719
Publication number (International publication number)：2001324813
Application date： Mar. 02, 2001
Publication date： Nov. 22, 2001
Summary：

【要約】【解決手段】 (A)光酸発生剤(B)下記一般式(1)で示される置換基を有し、酸の作用でアルカリ現像液に対する溶解性が変化する樹脂を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。 Ph(CH2)nOCH(CH2CH3)- (1) (式中、Phはフェニル基を示し、nは1又は2である。)【効果】 本発明の化学増幅ポジ型レジスト材料は、一般式(1)で示される置換基を有することにより、解像性に優れ、PEDが長時間にわたる場合にも線幅変動、形状劣化が少なく、塗布後、現像後、剥離後の異物が少なく、現像後のパターンプロファイル形状に優れる。更に、焦点がずれた場合にも矩形性を保ちパターンプロファイルの膜減りが少なく焦点余裕度に優れ、微細加工に適し、種々のリソグラフィー、特に遠紫外線リソグラフィーにおいて大いに威力を発揮する。

Claim (excerpt)：

(A)光酸発生剤(B)下記一般式(1)で示される置換基を有し、酸の作用でアルカリ現像液に対する溶解性が変化する樹脂を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。 Ph(CH2)nOCH(CH2CH3)- (1) (式中、Phはフェニル基を示し、nは1又は2である。)

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/02 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/02 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (26)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC121 ,  4J002BC131 ,  4J002BG011 ,  4J002EB006 ,  4J002EQ016 ,  4J002EV246 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002FD050 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03