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J-GLOBAL ID：200903068796608136
錫又は錫合金電気メッキ浴、およびそれを用いた電気メッキ方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997048037
Publication number (International publication number)：1998245694
Application date： Mar. 03, 1997
Publication date： Sep. 14, 1998
Summary：
【要約】【課題】 電子部品がメッキ液で浸食されることなく、且つ、電流密度を高くしても、絶縁体部への金属析出が起こらないようにする。【解決手段】 (1)第1錫塩、または第1錫塩と、鉛、銅、亜鉛、コバルト、ニッケルの中から選ばれる1種以上の金属塩と、(2)錯化剤と、(3)光沢剤として、一般式[A]〜[C]のいずれかで示される第4級アンモニウム化合物(ただし、R1は炭素数6〜18のアルキル基、R2、R3、R4は炭素数1〜4のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基、Xはハロゲンイオン、CH3SO4-、C2H5SO4-、CH3COO-、NO3-のうち少なくとも1種類)と、(4)pH3〜pH10の条件を具備する。
Claim (excerpt)：
以下の構成を具備する錫又は錫合金電気メッキ浴。(1)第1錫塩、または第1錫塩と、鉛、銅、亜鉛、コバルト、ニッケルの中から選ばれる少なくとも1種類の金属塩(2)錯化剤(3)光沢剤として、下記一般式[A]〜[C]のいずれかで示される第4級アンモニウム化合物一般式[A]【化式1】(ただし、R1は炭素数6〜18のアルキル基、R2、R3、R4は炭素数1〜4のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基、Xはハロゲンイオン、CH3SO4-、C2H5SO4-、CH3COO-、NO3-のうち少なくとも1種類)一般式[B]【化式2】(ただし、R1は炭素数6〜18のアルキル基、R2、R3、R4は炭素数1〜4のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基)一般式[C]【化式3】(ただし、 R1は炭素数6〜18のアルキル基、R2、R3、R4は炭素数1〜4のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基)(4)pH3〜pH10
IPC (2)：
FI (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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