レーザ光制御装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：波多野久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993068691
Publication number (International publication number)：1994181358
Application date： Mar. 26, 1993
Publication date： Jun. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】レーザ光の一部をモニタしてレーザ線質を補正し、補償することで、レーザ光を効率よく有効的に再利用し、エネルギ利用効率を向上させたレーザ光制御装置を提供するものである。【構成】レーザ光制御装置は、レーザ光が反応媒質14を伝播することにより変化する波面、強度、偏光等のレーザ線質を、元の状態または次の伝播に最適状態となるように調節制御するレーザ光制御装置において、前記反応媒質に入力されるレーザ光の光強度を補償するレーザ増幅装置31と、反応媒質中を伝播されたレーザ光の一部をサンプリングしてレーザ線質をモニタする光モニタ系28と、この光モニタ系28にて検出されたレーザ線質情報に基づいてレーザ線質を調節制御し、補償する透過型補償光学系33とを有する光学モジュール25を備えたものである。

Claim (excerpt)：

レーザ光が反応媒質中を伝播することにより変化する波面および偏光等のレーザ線質を、元の状態または次の伝播に最適状態となるように調節制御するレーザ光制御装置において、レーザ光の波面および偏光等のレーザ線質をモニタする光モニタ系と、この光モニタ系からの検出モニタ信号によりレーザ線質の補正を行なう透過型補償光学系とを有することを特徴とするレーザ光制御装置。

IPC (2)：

H01S 3/13 , H01S 3/0947

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

特開平2-258027
特開平3-046286
特開平2-259615

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