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J-GLOBAL ID：200903068889415826

水の浄化方法、及び水浄化システム

Inventor：
桜田 司

About 桜田 司


Applicant, Patent owner：
株式会社信州セラミックス

About 株式会社信州セラミックス


Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002065240
Publication number (International publication number)：2003260462
Application date： Mar. 11, 2002
Publication date： Sep. 16, 2003
Summary：
【要約】【課題】 水、特に水苔や藻が発生している水を塩素等の化学物質を使用することなく効率よく除去する方法、及びその装置を提供することを課題とする。【解決手段】 浄化すべき水のpHを6.5〜8.5、化学的酸素要求量を3mg/l以下、浮遊物質量を5mg/l以下、溶存酸素量を7.5mg/l以下、とするための第一浄化工程と、前記第一浄化工程終了後の水を、少なくとも光半導体粉末からなる光触媒機能体に接触させることにより殺菌をするための光触媒工程と、により水を浄化する。
Claim (excerpt)：
浄化すべき水のpHを6.5〜8.5、化学的酸素要求量を3mg/l以下、浮遊物質量を5mg/l以下、溶存酸素量を7.5mg/l以下、とするための第一浄化工程と、前記第一浄化工程終了後の水を、少なくとも光半導体粉末からなる光触媒機能体に接触させることにより殺菌をするための光触媒工程と、を有することを特徴とする水の浄化方法。
IPC (5)：
C02F 1/30 ,  B01D 21/01 102 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/72 101
FI (5)：
C02F 1/30 ,  B01D 21/01 102 ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/52 Z ,  C02F 1/72 101
F-Term (50)：
4D015BA12 ,  4D015BA23 ,  4D015BB08 ,  4D015BB13 ,  4D015CA20 ,  4D015DA09 ,  4D015DA17 ,  4D015DA19 ,  4D015DA23 ,  4D015DA30 ,  4D015DA40 ,  4D015DC02 ,  4D015DC04 ,  4D015EA32 ,  4D015EA33 ,  4D015FA01 ,  4D015FA02 ,  4D015FA12 ,  4D015FA15 ,  4D015FA19 ,  4D015FA23 ,  4D015FA28 ,  4D037AA05 ,  4D037AA08 ,  4D037AA09 ,  4D037AA11 ,  4D037AB03 ,  4D037AB18 ,  4D037BA16 ,  4D037CA06 ,  4D037CA08 ,  4D050AA02 ,  4D050AA08 ,  4D050AA10 ,  4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BD06 ,  4D050CA16 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA05 ,  4G069CA11 ,  4G069DA06 ,  4G069EA04Y ,  4G069EA09 ,  4G069EA10 ,  4G069FB22
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 原水の処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-252577   Applicant：新日本製鐵株式会社
  • 水の高度処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-046153   Applicant：新日本製鐵株式会社
  • 廃水浄化処理剤及びその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-351057   Applicant：久野忠彦

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