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J-GLOBAL ID：200903068898523046

マイクロ波照射処理装置

Inventor：
嶋田 清

About 嶋田 清

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栗山 一政

About 栗山 一政

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生駒 俊治

About 生駒 俊治

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野畑 博敬

About 野畑 博敬


Applicant, Patent owner：
島田理化工業株式会社

About 島田理化工業株式会社


Agent (1)： 萩原 誠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004188139
Publication number (International publication number)：2006012605
Application date： Jun. 25, 2004
Publication date： Jan. 12, 2006
Summary：
【課題】マイクロ波の照射を処理物の上下面のみならず側面からも照射可能にし、処理物の乾燥ムラまたは加熱ムラを確実に防ぐマイクロ波照射処理装置を提供する。【解決手段】処理槽10内に処理物1を搬入して上下面の両方から導波管16を介してマイクロ波発生器12a、13aで発生させたマイクロ波を導入及び照射して乾燥または温度を上げるマイクロ波照射処理装置であって、処理物1を前面から後面に搬送して処理するコンベア11の処理槽10を備え、この処理槽10にマイクロ波を上下面の両方から照射可能な第1照射手段12と、この第1照射手段12に加えて処理物1両方の側面からも照射可能な第2照射手段13とを備える。ここで、マイクロ波発生器12a、13aには、処理槽10に導波管16を介して各方向からそれぞれ同時または別々にマイクロ波を照射可能に制御する制御手段19を接続する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
処理槽内に処理物を搬入して上下面のいずれか一方或いは両方から導波管を介してマイクロ波発生器で発生させたマイクロ波を導入及び照射して乾燥または温度を上げるマイクロ波照射処理装置において、 前記処理物を前面から後面に搬送して処理するコンベア式の処理槽を備え、この処理槽にマイクロ波を前記上下面いずれか一方或いは両方から照射可能な第1照射手段と、この第1照射手段に加えて前記処理物の左右どちらか一方或いは両方の側面からも照射可能な第2照射手段とを備えたことを特徴とするマイクロ波照射処理装置。
IPC (8)：
H05B 6/78 ,  B01J 19/12 ,  F26B 3/347 ,  F26B 15/18 ,  F26B 21/10 ,  H05B 6/68 ,  H05B 6/70 ,  H05B 6/72
FI (9)：
H05B6/78 B ,  B01J19/12 A ,  F26B3/347 ,  F26B15/18 A ,  F26B21/10 A ,  H05B6/68 320D ,  H05B6/68 320Q ,  H05B6/70 E ,  H05B6/72 D
F-Term (39)：
3K086AA01 ,  3K086CA03 ,  3K086CA04 ,  3K086CB04 ,  3K086CC01 ,  3K086DA02 ,  3K090AA01 ,  3K090AB04 ,  3K090AB13 ,  3K090AB20 ,  3K090CA01 ,  3K090CA18 ,  3K090CA21 ,  3K090NA01 ,  3K090NA07 ,  3L113AA02 ,  3L113AA03 ,  3L113AB02 ,  3L113AB07 ,  3L113AC12 ,  3L113AC45 ,  3L113AC66 ,  3L113BA04 ,  3L113BA34 ,  3L113CA08 ,  3L113CB07 ,  3L113DA11 ,  4G075AA01 ,  4G075BA10 ,  4G075BB02 ,  4G075BB10 ,  4G075CA02 ,  4G075CA26 ,  4G075DA01 ,  4G075EA06 ,  4G075EB15 ,  4G075EB31 ,  4G075EB46 ,  4G075ED11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (1)

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