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J-GLOBAL ID：200903068917931479
極度に失活した改質触媒の再生法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山崎 行造 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1994507552
Publication number (International publication number)：1996501721
Application date： Sep. 09, 1993
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：
【要約】ゼオライトに担持された1種類以上の第VIII族触媒金属を含んでなる極度に失活した改質触媒を再生する方法にして、(a)上記金属粒子をゼオライトミクロ孔の外部に移動させることによって金属粒子の利用性を高めるための、過酷な条件下でのコーク燃焼工程、(b)元素状塩素と酸素での湿式オキシ塩素化による金属分散工程、(c)残留塩素をできるだけ多く除去するための、酸素と水を含んだ気流による低圧でのストリッピング工程、及び(d)水素による低圧での触媒金属の還元工程を含んでなる方法。
Claim (excerpt)：
第VIII族触媒金属とゼオライトを含んでなる失活触媒を再生する方法にして、当該方法が下記工程: (a)失活触媒を、酸素と不活性ガスと水を含んでなる気流に、400°C〜600°Cの温度からなる酸化条件下で、上記失活触媒からコークを燃焼除去しかつ金属を後段の処理工程(b)での塩素含有ガスの接触可能な凝集粒子に変換するのに有効な時間、接触させて、実質的に脱コークされた触媒を得る工程; (b)上記の実質的に脱コークされた触媒を、水と塩素源と酸素と不活性ガスを含んでなる気流に、450°C〜550°Cの温度及び207Paa(0.03psia)を超える塩素(上記塩素源から発生)の分圧からなるオキシ塩素化条件下で、上記金属が塩素化及び分散されるように塩化水素及び/又は塩素が触媒を通過して138Paa(0.02psia)を超える(HCl+Cl2)分圧となるのに有効な時間、接触させて、実質的に完全に分散した塩素錯化金属を含んでなる塩素化触媒を得る工程; (c)上記塩素化触媒を、水と酸素と不活性ガスを含んでなる気流に、450°C〜550°Cの温度及び低い全圧からなる塩素除去条件下で、金属に錯化した塩素の少なくとも一部を上記塩素化触媒から除去するのに有効な時間、接触させて、触媒に接触させた後の気流に含まれる塩化水素の分圧が27.6Paa(0.004psia)未満となるようにする工程;及び (d)工程(c)で得られた塩素化触媒を、不活性ガスと水素を含んでなる気流に、低い全圧及び350°C〜550°Cの温度からなる還元条件下で、触媒中の塩素錯化金属の少なくとも一部を金属状態まで還元するのに有効な時間、接触させて、分散金属とゼオライトを含んでなる再生触媒を得る工程、を含んでなることを特徴とする方法。
IPC (8)：
B01J 29/62
, B01J 29/90
, B01J 38/44
, C07C 5/387
, C07C 5/41
, C07C 15/04
, C10G 35/095
, C07B 61/00 300
