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J-GLOBAL ID：200903068948758953

電子ビーム露光装置

Inventor： 小池 薫 ,  守屋 茂
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998100801
Publication number (International publication number)：1999297601
Application date： Apr. 13, 1998
Publication date： Oct. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 帯電防止膜を形成して帯電を防止する技術では、高感度な化学増幅型レジストの使用を難しくし、アース針や接地板を接触させて余分な電荷を逃がす技術では接触により塵埃が発生するために好ましくない。【解決手段】 試料31上に電子ビームEBを照射して露光を行う電子ビーム露光装置において、電子ビームEBの入射側の試料31の近傍に、電子ビームEBが通過する電子ビーム通過部12を形成した導電性部材11を、試料31に対して非接触に備えたものである。

Claim (excerpt)：

試料上に電子ビームを照射して露光を行う電子ビーム露光装置において、前記電子ビームの入射側の前記試料近傍に設けたもので前記電子ビームが通過する電子ビーム通過部を形成した導電性部材を備えたことを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (5)：

H01L 21/30 541 L ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 B