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J-GLOBAL ID:200903068971954891

光学素子及びその成形方法及びレーザー走査光学系

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大塚 康徳 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994096386
Publication number (International publication number):1995060857
Application date: May. 10, 1994
Publication date: Mar. 07, 1995
Summary:
【要約】【目的】装置の大型化や高コストを招くことなく、光学素子の局所的な加工誤差を補正できるような光学素子の成形方法を提供する。【構成】光学素子を成形するにあたり、各光学素子の光学機能面に一定の形状誤差が安定して形成されるように成形条件を設定する第1の工程と、この成形条件により成形される光学素子の光学機能面を複数個の領域に分割し、この分割された各領域を、境界において連続となるようにそれぞれ前記形状誤差を関数で近似する第2の工程と、この第2の工程で求められた関数に基づいて、成形用型部材の成形面の形状を、一定の形状誤差を相殺するように加工する第3の工程と、この第3の工程で加工された成形用型部材を用いて光学素子の成形を行なう第4の工程とを具備する。
Claim (excerpt):
光学素子の素材を、成形用型部材を用いて成形し、該型部材のキャビティ面の光学機能面であるところの表面形状を前記素材の表面に転写形成するようにした光学素子の成形方法において、前記光学素子を成形するにあたり、各光学素子の光学機能面に一定の形状誤差が安定して形成されるように成形条件を設定する第1の工程と、前記成形条件により成形される光学素子の光学機能面を複数個の領域に分割し、該分割された各領域を、該各領域の境界において連続となるような条件で、それぞれ前記形状誤差を関数で近似する第2の工程と、該第2の工程で求められた関数に基づいて、前記成形用型部材のキャビティ面の形状を、前記一定の形状誤差を相殺するような形状に加工する第3の工程と、該第3の工程で加工された成形用型部材を用いて光学素子の成形を行なう第4の工程とを具備することを特徴とする光学素子の成形方法。
IPC (4):
B29D 11/00 ,  B29C 33/38 ,  B29C 45/37 ,  B29L 11:00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭60-154014
  • 特開平4-059342

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