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J-GLOBAL ID：200903069006427702

中抵抗エラストマー組成物

Inventor： 棚橋 直樹 ,  前田 耕一郎 ,  三沢 眞理
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996327641
Publication number (International publication number)：1998154416
Application date： Nov. 22, 1996
Publication date： Jun. 09, 1998
Summary：

【要約】【課題】 中程度の電気抵抗率(約10の3乗〜約10の13乗Ωcm)で、環境変動による電気抵抗率の変動が小さく、低硬度で、黒べた印字時に白抜けが生じない中抵抗エラストマー組成物を提供する。【解決手段】 平均粒径5μm、JIS A硬度25、体積固有抵抗2×10の11乗Ωcmのエラストマー粒子と、スチレンブタジエン共重合体ゴムと、カーボンブラックと、ステアリン酸と、パークミルD40(日本油脂製)とを、2本ロール混練機を用いて混練し、次いで10mmφ×280mmのステンレス鋼製の芯材の周りにロール形状に押出成形し、160°Cの条件で30分間加熱し、ロール外周面を研磨し、18.5mmφ×250mmのエラストマーロールを得た。

Claim (excerpt)：

導電性エラストマー(a)中に平均粒径が25μm以下で、JIS A硬度が45以下の絶縁性エラストマー粒子(b)を分散してなる中抵抗エラストマー組成物。

IPC (8)：

H01B 1/20 ,  C08L 21/00 ,  C08L101/12 ,  G03G 15/08 501 ,  G03G 15/08 ,  G03G 15/08 504 ,  B29D 31/00 ,  B29K 21:00

FI (7)：

H01B 1/20 A ,  C08L 21/00 ,  C08L101/12 ,  G03G 15/08 501 A ,  G03G 15/08 501 D ,  G03G 15/08 504 A ,  B29D 31/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-315171
  
• 現像ローラ及び現像装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-077964   Applicant：株式会社ブリヂストン

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• シリコーン材料ハンドブック, 199508, 368頁-372頁