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J-GLOBAL ID：200903069028164721

プリント回路用液状レジストインク組成物

Inventor： 宮山 聡 ,  三宅 得山 ,  西村 俊章 ,  橋本 壯一 ,  小田 俊和
Applicant, Patent owner： 互応化学工業株式会社
Agent (1)： 安藤 惇逸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991359364
Publication number (International publication number)：1993181276
Application date： Dec. 30, 1991
Publication date： Jul. 23, 1993
Summary：

【要約】【構成】 A.トリグリシジルイソシアヌレートと不飽和モノカルボン酸との反応物に、イソシアネート基を分子中に少なくとも2個有するイソシアネート化合物及び飽和若しくは不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる紫外線硬化性樹脂、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.熱硬化性エポキシ化合物を含有してなる、希アルカリ水溶液で現像可能なプリント回路用液状レジストインク組成物。【効果】 トリグリシジルイソシアヌレートの長所である良好な耐熱性等の性質を保持しながら基材密着性及び耐電蝕性にも優れ、しかもプリキュア後における被膜特性に優れているためパターンの接触露光も容易に行うことができ、さらに解像性、耐溶剤性及び耐メッキ性にも優れる。

Claim (excerpt)：

A.トリグリシジルイソシアヌレートと不飽和モノカルボン酸との反応物に、イソシアネート基を分子中に少なくとも2個有するイソシアネート化合物及び飽和若しくは不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる紫外線硬化性樹脂、B.光重合開始剤、C.希釈剤及びD.熱硬化性エポキシ化合物を含有してなる、希アルカリ水溶液で現像可能なプリント回路用液状レジストインク組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 501 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/032 501 ,  G03F 7/038 503 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭52-076399
  
• 特開平2-160242
  
• 特開平3-237112
  
• 特開昭63-205650