Pat

J-GLOBAL ID：200903069084602820

平坦化膜

Inventor： 橋本 晃 ,  西村 俊博 ,  湊 光朗
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991163449
Publication number (International publication number)：1993032410
Application date： Jun. 10, 1991
Publication date： Feb. 09, 1993
Summary：

【要約】【構成】 非水条件下で形成された酸化ケイ素膜から成る平坦化膜。【効果】 吸湿性が低く、均質でち密であって、厚膜にしてもクラックが発生することがなく、平坦化作用に優れており、例えば半導体素子や液晶表示素子などの基板の平坦化に好適に用いられる。

Claim (excerpt)：

非水条件下で形成された酸化ケイ素膜から成る平坦化膜。

IPC (3)：

C01B 33/12 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/90