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J-GLOBAL ID：200903069102342009
磁気光学薄膜およびその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高島 一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991349672
Publication number (International publication number)：1993159396
Application date： Dec. 06, 1991
Publication date： Jun. 25, 1993
Summary：
【要約】【構成】 PtMnSb合金よりキュリー温度が高く且つ保磁力が小さい磁性体とPtMnSb合金とを、アルミニウム陽極酸化多孔質皮膜の微細孔中に順次電解析出させることにより積層してなる磁気光学薄膜およびその製造方法。【効果】 本発明における製造方法により作製された磁気光学薄膜は、θkが大きくオーバーライトが可能であるという優れた効果を有するものである。
Claim (excerpt)：
アルミニウム陽極酸化多孔質皮膜の微細孔中に、PtMnSb合金よりキュリー温度が高く且つ保磁力が小さい磁性体とPtMnSb合金とを順次積層してなる磁気光学薄膜。
IPC (3)：
G11B 11/10
, C25D 3/56
, C25B 11/03
