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J-GLOBAL ID：200903069103633376
位相シフト層を有するフォトマスクの修正方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992301942
Publication number (International publication number)：1994148870
Application date： Nov. 12, 1992
Publication date： May. 27, 1994
Summary：
【要約】【目的】 位相シフト層を有するフォトマスクの突起状の欠陥部を簡単な方法で精度よく修正する。【構成】 位相シフト層3又はガラス基板1上に透明突起状の欠陥部4を有する位相シフトフォトマスクの修正方法であって、先端が尖った微細プローブ20で欠陥部4を引っ掻いて物理的に除去する。
Claim (excerpt)：
位相シフト層又はガラス基板上に透明突起状の欠陥部を有する位相シフトフォトマスクの修正方法において、先端が尖った微細プローブで前記透明突起状欠陥部を引っ掻いて物理的に除去することを特徴とする位相シフト層を有するフォトマスクの修正方法。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L 21/30 301 W
, H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
