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J-GLOBAL ID：200903069109212046

X線発生装置

Inventor： 神高 典明 ,  近藤 洋行
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995307720
Publication number (International publication number)：1997148093
Application date： Nov. 27, 1995
Publication date： Jun. 06, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 長時間安定して使用できるX線発生装置を提供する。【解決手段】 減圧された真空容器内の標的部材203に励起エネルギービームを204を照射してプラズマ205を形成させ、プラズマ205からX線を取り出すX線発生装置であり、部材203及び/又はプラズマ205から放出される飛散粒子の放出量の方向分布を制御して、X線を取り出す方向への飛散粒子放出量を低減させる形状部分を有する飛散粒子制御部材を部材203に隣接または近接させて設けたX線発生装置において、形状部分を飛散粒子制御部材201の表面に対して垂直または略垂直に貫通する直径0.1 〜5mmの貫通孔とし、かつ該貫通孔をエネルギービーム204が通過して部材203に照射されるように部材201を配置する。

Claim (excerpt)：

減圧された真空容器内の標的部材に励起エネルギービームを照射してプラズマを形成させ、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置であり、前記標的部材及び/又は前記プラズマから放出される飛散粒子の放出量の方向分布を制御して、前記X線を取り出す方向への飛散粒子放出量を低減させる形状部分を有する飛散粒子制御部材を前記標的部材に隣接または近接させて設けたX線発生装置において、前記形状部分を前記飛散粒子制御部材の表面に対して垂直または略垂直に貫通する直径0.1 〜5mmの貫通孔とし、かつ該貫通孔を前記励起エネルギービームが通過して前記標的部材に照射されるように前記飛散粒子制御部材を配置したことを特徴とするX線発生装置。

IPC (2)：

H05G 2/00 ,  H05G 1/00

FI (2)：

H05G 1/00 K ,  H05G 1/00 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• レーザプラズマX線源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-092829   Applicant：株式会社ニコン
• レーザープラズマX線源
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-068437   Applicant：株式会社ニコン