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J-GLOBAL ID：200903069109788584

位相シフトマスク及びそれを用いた焦点位置検出方法

Inventor： 桑原 和幸 ,  小野寺 俊雄 ,  大塚 博
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社
Agent (1)： 清水 守 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995113199
Publication number (International publication number)：1996304999
Application date： May. 11, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 人間の判断による個人差をより排除して、焦点位置検出をより確実にすることができる位相シフトマスク及びそれを用いた焦点位置検出方法を提供する。【構成】 位相シフトマスクにおいて、半導体装置製造でのリソグラフィ工程における露光装置の焦点位置検出に用いる、位相角が180度の整数倍以外の位相シフトパターン102,103による焦点位置を移動可能な焦点位置検出用パターンを有する。

Claim (excerpt)：

半導体装置製造でのリソグラフィ工程における露光装置の焦点位置検出に用いる、位相角が180度の整数倍以外の位相シフタによる焦点位置を移動可能な焦点位置検出用パターンを有する位相シフトマスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/207 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 1/08 A ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 526 A ,  H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 位相シフトマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-162920   Applicant：株式会社東芝
• 光学焦点テストマスクと監視システム及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-229601   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 特開平4-005657
  
• 特開平4-005657