Pat

J-GLOBAL ID：200903069134909515

真空蒸発回収方法及び装置

Inventor： 横山 芳昭
Applicant, Patent owner： 株式会社オギハラ
Agent (1)： 斉藤 晴男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991340074
Publication number (International publication number)：1995003343
Application date： Nov. 29, 1991
Publication date： Jan. 06, 1995
Summary：

【要約】【目的】 固体表面に付着した液体並びに固体を、安いランニングコストで効率よく多量に除去し、しかも被処理物を酸化させず、回収物も純粋に近い状態で回収し得る蒸発回収方法及び装置を提供することを目的とする。【構成】 密閉空間を有しており、加熱手段、減圧手段、凝縮手段及び還元性ガスと非酸化性ガスによる加圧手段を備えた第1真空加熱室14、第2真空加熱室24及び第3真空加熱室36を連設し、被処理物を順次各室に搬入し、各室において異なった温度にて加熱し、付着物を蒸発させて除去する。除去した付着物は凝縮して回収する。第1真空加熱室14の前には被処理物を予熱するための前部真空置換室3が置かれ、第3真空加熱室36の後には被処理物を冷却する後部真空置換室47が置かれる。

Claim (excerpt)：

真空蒸発させる被処理物を加熱手段を有する炉内に投入し、酸化雰囲気にて所定温度まで昇温させ、爆発限界以下の酸素量に減圧した後、前記炉内に還元雰囲気ガスを流し込んで被処理物の酸化物を還元し、その後前記炉内を指定蒸発温度の状態で減圧手段により真空にし、前記被処理物から蒸発してくる物質を前記炉に連設された回収装置に導き、そこにおいて凝縮させて回収することを特徴とする真空蒸発回収方法。

IPC (2)：

C22B 7/00 ,  C22B 9/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-282305
  
• 特公昭60-033188
  
• 特開平4-346681