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J-GLOBAL ID：200903069149200717

微細パターンを有する光学素子の製造方法

Inventor： 小林 伸二 ,  山口 淳 ,  樋口 政廣 ,  前納 良昭 ,  染矢 和昭
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社 ,  三洋マービック・メディア株式会社
Agent (1)： 鳥居 洋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004281603
Publication number (International publication number)：2006098489
Application date： Sep. 28, 2004
Publication date： Apr. 13, 2006
Summary：

【課題】 レーザ光を用いた2光束干渉露光により、基板中心部から周辺部に至るまでレジストに所望のパターン形成して、基板に微細パターンを形成する方法を提供する。【解決手段】 この発明の製造方法は、レーザ光を光学系を用いて2光束に分岐させると共に、再び交差させてレジストを塗布した基板の主面に照射して、干渉露光させた後、現像して前記レジストに微細パターンを形成し、微細パターンが形成されたレジストをマスクとしてエッチングを行い前記基板の主面に微細パターンを形成する微細パターンを有する光学素子の製造方法であって、前記レーザ光の照度が低いほどレジスト30の膜厚が薄くなるように、基板3の主面に塗布するレジスト31の膜厚に照度分布に対応した膜厚分布を設け、このレジスト31に2光束干渉露光によりレーザ光を照射し、現像してレジストパターン32を得る。【選択図】 図11

Claim (excerpt)：

レーザ光を光学系を用いて2光束に分岐させると共に、再び交差させてレジストを塗布した基板の主面に照射して、干渉露光させた後、現像して前記レジストに微細パターンを形成し、微細パターンが形成されたレジストをマスクとしてエッチングを行い前記基板の主面に微細パターンを形成する微細パターンを有する光学素子の製造方法であって、前記露光光の照度が低いほどレジストの膜厚が薄くなるように、前記基板の主面に塗布するレジストの膜厚に照度分布に対応した膜厚分布を設けることを特徴とする微細パターンを有する光学素子の製造方法。

IPC (3)：

G02B 5/18 ,  G11B 7/135 ,  G02B 1/11

FI (3)：

G02B5/18 ,  G11B7/135 A ,  G02B1/10 A

F-Term (13)：

2H049AA03 ,  2H049AA31 ,  2H049AA34 ,  2H049AA37 ,  2H049AA63 ,  2K009AA12 ,  2K009DD05 ,  2K009DD12 ,  5D789AA20 ,  5D789AA38 ,  5D789JA63 ,  5D789JA65 ,  5D789NA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 表面処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-088524   Applicant：科学技術振興事業団, 高原浩滋