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J-GLOBAL ID：200903069162726124

ウエハ洗浄装置

Inventor： 稲垣 靖史
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 尾川 秀昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991180239
Publication number (International publication number)：1993003187
Application date： Jun. 24, 1991
Publication date： Jan. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ウェハ洗浄装置の小型化、スループットの向上を図る。【構成】 薬液処理槽、純粋槽、乾燥機等からなる洗浄経路を同心円上に形成し、該円の中心を回転軸として回転する搬送ロボットによりウェハを搬送するようにする。

Claim (excerpt)：

薬液処理槽、純水槽、乾燥機及びローダ/アンローダ部等が配置された洗浄経路を円上に形成し、上記円の中心上の軸を回転中心として回転する搬送ロボットによりウェハを搬送して上記薬液処理槽、純水槽、乾燥機にて処理しローダ/アンローダ部にてロード/アンロードするようにしてなることを特徴とするウェハ洗浄装置