Pat
J-GLOBAL ID:200903069184678743
光波干渉計を用いた寸法測定装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
吉田 研二 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998203131
Publication number (International publication number):2000035314
Application date: Jul. 17, 1998
Publication date: Feb. 02, 2000
Summary:
【要約】【課題】 光波干渉計において、定期校正の時点から離れた時点で測定されたデータの信頼性を向上する。【解決手段】 過去の測定における各パラメータを記憶しているメモリ100から、再計算しようとする測定の各パラメータを読み出す。修正部104は、読み出されたパラメータの少なくとも一つを変更し、これを用いて寸法算出部110は、寸法を再算出する。定期校正の直前に行われた測定に対し、校正値が前回と変化していても、校正値を変更し再計算することによって、前回の測定データを有効に利用でき、再度測定を行う必要がない。
Claim (excerpt):
寸法測定を行う際に用いる各パラメータの測定時の値を記憶する記憶手段と、前記パラメータの測定時の値のうち少なくとも一つを修正する修正手段と、前記パラメータの修正された値を用いて寸法を算出する寸法算出手段と、を有する光波干渉計を用いた寸法測定装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (28):
2F064AA01
, 2F064CC04
, 2F064DD02
, 2F064FF02
, 2F064GG12
, 2F064GG38
, 2F064GG39
, 2F064GG47
, 2F064HH01
, 2F064JJ06
, 2F065AA02
, 2F065AA22
, 2F065DD06
, 2F065EE01
, 2F065FF52
, 2F065GG05
, 2F065JJ01
, 2F065LL10
, 2F065LL12
, 2F065LL30
, 2F065LL35
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065QQ26
, 2F065QQ27
, 2F065QQ51
Return to Previous Page