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J-GLOBAL ID：200903069269468357

表面処理液および基板表面処理方法

Inventor： ▲高▼原 洋一 ,  山本 英二 ,  斉藤 昭男 ,  岡 齊
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 富田 和子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996064563
Publication number (International publication number)：1997255991
Application date： Mar. 21, 1996
Publication date： Sep. 30, 1997
Summary：

【要約】【課題】アルカリ性処理液を用いて基板表面の汚染金属を除去する際に、処理液に溶出した金属イオンによる基板の再汚染を防止する。【解決手段】鉄イオンおよび亜鉛イオンの捕捉剤として、ジエチレントリアミン五酢酸を用いる。銅イオンおよびNiイオンの捕捉剤として、トリエチレンテトラミン六酢酸を用いる。Alイオンの捕捉剤として、グルタミン酸を用いる。【表1】

Claim (excerpt)：

被処理物表面の汚染金属を除去するためのアルカリ性表面処理液において、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、およびグルタミン酸のうちの少なくとも一の金属イオン捕捉剤を含むことを特徴とする表面処理液。

IPC (7)：

C11D 7/04 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C23G 1/14 ,  H01L 21/304 341

FI (7)：

C11D 7/04 ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C23G 1/14 ,  H01L 21/304 341 L