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J-GLOBAL ID：200903069271601366

高分子コーティング除去用組成物

Inventor： イアン ヨハン ツビンゼルマン
Applicant, Patent owner： ザ ダウ ケミカル カンパニー
Agent (1)： 青木 朗 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992149768
Publication number (International publication number)：1993156185
Application date： Jun. 10, 1992
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高分子コーティングの除去に有効であり、実質的な量の塩素化溶媒を含まない新規組成物を提供する。【構成】 高分子コーティングの除去に有効な組成物であって、(A) 、(B) 及び(C) の総重量を基準として(A) 10〜99重量パーセントの下式IR1 O-(CH2 -CHR3 O)n -R2 (I)(上式中、R1 及びR2 は独立にC1 〜C12アルキル基であり、R3 は各々独立にメチルもしくはエチルであり、そしてnは1〜4である)のプロピレンもしくはブチレングリコールジエーテル、(B) 90〜0重量パーセントの有機プロトン性溶媒、及び(C) 30〜1重量パーセントの水を含み、かつ実質量の塩素化溶媒を含まない組成物。

Claim (excerpt)：

高分子コーティングの除去に有効な組成物であって、(A) 、(B) 及び(C) の総重量を基準として(A) 10〜99重量パーセントの下式IR1 O-(CH2 -CHR3 O)n -R2 (I)(上式中、R1 及びR2 は独立にC1 〜C12アルキル基であり、R3 は各々独立にメチルもしくはエチルであり、そしてnは1〜4である)のプロピレンもしくはブチレングリコールジエーテル、(B) 90〜0重量パーセントの有機プロトン性溶媒、及び(C) 30〜1重量パーセントの水を含み、かつ実質量の塩素化溶媒を含まない組成物。