Pat
J-GLOBAL ID：200903069317341640

COガス/H2ガス回収装置及びCOガス/H2ガス回収方法

Inventor：
平城 正彦

About 平城 正彦

, 
道上 隆

About 道上 隆


Applicant, Patent owner：
コスモエンジニアリング株式会社

About コスモエンジニアリング株式会社


Agent (1)： 大澤 斌 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000156630
Publication number (International publication number)：2001335305
Application date： May. 26, 2000
Publication date： Dec. 04, 2001
Summary：
【要約】【課題】 COガスとH2 ガスとを含む原料ガスから高い回収率で、しかも高純度のCOガスを回収するCOガス回収装置を提供する。【解決手段】 本COガス回収装置20は、H2 -PSA装置22、H2 -PSA装置22から流出したCOリッチガスをCOガス回収工程の所定圧力まで昇圧するCOリッチガス圧縮装置24、CO-PSA装置26、及び、CO-PSA装置から流出したCOリーンガスの一部を原料ガスに合流させるCOリーンガス圧縮装置28とを備えている。H2 -PSA装置は、吸着剤を充填した吸着塔を備え、原料ガス中の主として非H2 ガスを吸着剤に吸着させ、原料ガスから非H2 ガスを吸着、分離した残りのH2 ガスを製品H2 ガスとして流出させると共に、吸着剤に吸着したガスを脱着させてCOリッチガスとして流出させる。CO-PSA装置は、COリッチガスからCOガスを分離、回収して、製品COガスとして流出させると共に、残りのガスをCOリーンガスとして流出させる。
Claim (excerpt)：
COガス/H2 ガス回収装置の入口で10容量%以上のCOガス及び30容量%以上のH2 ガスを含む原料ガスからCOガス及びH2 ガスを回収する装置であって、吸着剤を充填した吸着塔を備え、原料ガスを吸着塔に流入させ、原料ガス中の主として非H2 ガスを吸着剤に吸着させ、原料ガスから非H2 ガスを吸着、分離した残りのH2 ガスを製品H2 ガスとして流出させると共に、吸着剤に吸着したガスを脱着させてCOリッチガスとして流出させる、H2 ガス回収部と、H2 ガス回収部から流出したCOリッチガスからCOガスを分離、回収して、製品COガスとして流出させると共に、COリッチガスからCOガスを分離した残りのガスをCOリーンガスとして流出させる、COガス回収部と、H2 ガス回収部に流入させる原料ガスに、COガス回収部から流出したCOリーンガスを合流させる手段とを備えていることを特徴とするCOガス/H2 ガス回収装置。
IPC (3)：
C01B 3/56 ,  B01D 53/04 ,  F17D 1/02
FI (3)：
C01B 3/56 Z ,  B01D 53/04 B ,  F17D 1/02
F-Term (19)：
3J071AA02 ,  3J071BB03 ,  3J071BB14 ,  3J071CC11 ,  3J071DD21 ,  3J071FF04 ,  3J071FF05 ,  4D012CA07 ,  4D012CB16 ,  4D012CD07 ,  4D012CG01 ,  4D012CH02 ,  4G040FA04 ,  4G040FB04 ,  4G040FC03 ,  4G040FD00 ,  4G040FD01 ,  4G040FD02 ,  4G040FE01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM