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J-GLOBAL ID：200903069321835410

ポジチブ処理用の感放射線組成物およびこれを使用するレリーフ構造体の製造方法

Inventor： ラインホルト、シュヴァルム ,  ディルク、フンホフ ,  ホルスト、ビンダー
Applicant, Patent owner： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
Agent (1)： 田代 烝治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996240820
Publication number (International publication number)：1997127699
Application date： Sep. 11, 1996
Publication date： May. 16, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 極めて良好な光学的感応性を有する、感放射線組成物および改善されたコントラストを示すレリーフ構造体を提供する。【解決手段】 (a)酸不安定基を含有し、水に不溶性であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に対して可溶性になる少なくとも1種類のポリマー、(b)化学作用線の作用下に酸を形成する少なくとも1種類の有機化合物、および(c)上記(b)とは異なる、少なくとも1種類のさらに他の有機化合物を含有し、上記ポリマー(a)が、下式(I)、(II)、(III)で表わされる単位を、単位(I)が35-70モル%、単位(II)が35-50モル%、単位(III)が0-15モル%の割合でポリマー構造単位として含有する、ポジチブ処理用の感放射線組成物。

Claim (excerpt)：

(a)酸不安定基を含有し、水に不溶性であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に対して可溶性になる少なくとも1種類のポリマー、(b)化学作用線の作用下に酸を形成する少なくとも1種類の有機化合物、および(c)上記(b)とは異なる、少なくとも1種類のさらに他の有機化合物を含有し、上記ポリマー(a)が、下式(I)、(II)、(III)【化1】で表わされる単位を、単位(I)が35-70モル%、単位(II)が35-50モル%、単位(III)が0-15モル%の割合でポリマー構造単位として含有し、上記有機化合物(b)が、下式(IV)【化2】で表わされるスルホニウム塩であり、上記有機化合物(c)が、下式(V)【化3】で表わされ、かつR′、R′′が相互に同じでも異なってもよく、それぞれ炭素原子数1から4のアルキルを意味するか、あるいはR′、R′′がCH2 を介して相互に合体して5員環を形成し、R′′′が炭素原子1から4のアルキルを意味することを特徴とする、ポジチブ処理用の感放射線組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R