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J-GLOBAL ID:200903069339785720
アモルファス炭化水素でコーティングする方法及びその装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
梶 良之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998051831
Publication number (International publication number):1999246975
Application date: Mar. 04, 1998
Publication date: Sep. 14, 1999
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、大気圧下で比較的面積の広い電気絶縁体表面に硬質で透過性の薄膜を容易にコーティングする方法を提供する。【解決手段】 本発明は、電気絶縁体表面6を化学蒸着法により被覆するコーティング方法であって、原料ガスに炭化水素系ガスを使用し、放電電極13・14と前記電気絶縁体表面6とを相対移動させながら大気圧下で放電させ、前記電気絶縁体表面6をアモルファス炭化水素薄膜で被覆することを特徴とする。
Claim (excerpt):
電気絶縁体表面を化学蒸着法により被覆するコーティング方法であって、原料ガスに炭化水素系ガスを使用し、放電電極と前記電気絶縁体表面とを相対移動させながら大気圧下で放電させ、前記電気絶縁体表面をアモルファス炭化水素薄膜で被覆することを特徴とするコーティング方法。
IPC (4):
C23C 16/50
, C03C 17/28
, C08J 7/00 CFD
, C08J 7/00 303
FI (4):
C23C 16/50
, C03C 17/28 A
, C08J 7/00 CFD Z
, C08J 7/00 303
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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被膜形成装置及び被膜形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平2-418075
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜法および成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-021958
Applicant:三菱電機株式会社
-
大気圧プラズマ表面処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-230768
Applicant:神鋼電機株式会社
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特開平4-235283
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被膜形成装置及び被膜形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-015970
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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特開昭63-050478
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