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J-GLOBAL ID：200903069346764355

はんだ付け用不活性雰囲気室の酸素濃度制御方法

Inventor： 岡野 輝男 ,  宮本 康夫
Applicant, Patent owner： 株式会社タムラ製作所
Agent (1)： 樺澤 襄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994006222
Publication number (International publication number)：1995212032
Application date： Jan. 25, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 酸素濃度の制御精度を向上できるとともに、不活性ガスの供給量を低減できるはんだ付け用不活性雰囲気室の酸素濃度制御方法を提供する。【構成】 不活性雰囲気室1内に基板Pを投入する前は、不活性雰囲気室1内の酸素濃度を酸素濃度計3によりサンプリングしながら、PIDコントローラ4と流量制御弁5とにより、窒素等の不活性ガス供給量をPID制御して、不活性雰囲気室1内を設定された酸素濃度に安定させる。次に、シーケンサ12と流量制御弁13とにより、不活性雰囲気室1内に供給される空気供給量を増加させ、これに伴ってPID制御系により増加する不活性ガス供給量を流量計11およびシーケンサ12により監視する。不活性ガス供給量が設定供給量に達したら、シーケンサ12により空気供給量を固定し変化させない。不活性雰囲気室1内に基板Pを投入した後は、不活性雰囲気室1内に供給される不活性ガス供給量のみを調節する。

Claim (excerpt)：

はんだ付け用不活性雰囲気室に不活性ガスとともに空気を供給することにより、この不活性雰囲気室内を設定された低酸素濃度に制御するはんだ付け用不活性雰囲気室の酸素濃度制御方法において、不活性雰囲気室内にはんだ付け用基板を投入する前は、不活性雰囲気室内の酸素濃度をサンプリングしながら、不活性雰囲気室内に供給される不活性ガスの供給量をPID制御して、不活性雰囲気室内を設定された酸素濃度に安定させ、不活性雰囲気室内に供給される空気の供給量を増加させ、これに伴ってPID制御により増加する不活性ガスの供給量を監視し、不活性ガスの供給量が設定供給量に達したら空気の供給量を固定し、不活性雰囲気室内にはんだ付け用基板を投入した後は、不活性雰囲気室内に供給される不活性ガスの供給量のみを調節して、不活性雰囲気室内の酸素濃度を制御することを特徴とするはんだ付け用不活性雰囲気室の酸素濃度制御方法。

IPC (4)：

H05K 3/34 507 ,  B23K 1/008 ,  B23K 31/02 310 ,  G05D 21/00