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J-GLOBAL ID:200903069350964520

測長用モニター

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岡田 敬
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994267608
Publication number (International publication number):1996128812
Application date: Oct. 31, 1994
Publication date: May. 21, 1996
Summary:
【要約】【目的】 半導体装置の加工寸法の管理に係る測長モニターの改良に関する。【構成】 本発明の測長用モニターは、ウェハのLSI形成領域(11)の間に設けられたスクライブライン12上に形成されており、ラインモニター(残しパターン)として、ゲート・ポリシリコンモニター(GP)、第1層メタルモニター(M)、2層メタルモニター(SM)、第3メタルモニター(TM)が下段にブロック状に配置され、ホールモニター(抜きパターン)として、LOCOSモニター(F)、第1コンタクトモニター(C)、第2コンタクトモニター(SC)が上段にブロック状に配置されており、全体としては、上記各モニターが製造工程ごとに行列状に配置された測長モニター(13)となっている。
Claim (excerpt):
実パターンに対応する複数のラインを平行に配列してなるラインモニターと、実パターンに対応する複数のコンタクトホールを行列状に配列してなるホールモニターとを、スクライブライン上にそれぞれ対応する製造工程ごとに、行列状に配置してなることを特徴とする測長用モニター。
IPC (2):
G01B 11/02 ,  H01L 21/66

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