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J-GLOBAL ID:200903069352966229

スチルベンジオール類の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996212674
Publication number (International publication number):1998053549
Application date: Aug. 12, 1996
Publication date: Feb. 24, 1998
Summary:
【要約】【課題】スチルベンジオール類の製造方法において、反応終了後、その反応溶液からスチルベンジオール類を取り出す際、失われる量が少ない方法、またこれに加えて、脱水縮合反応後、前駆体を単離することなく、またその際の廃液(廃酸)の処理が簡便であり、かつ高収率で製造できる、スチルベンジオール類の工業的な製造方法を提供すること。【解決手段】水酸基のオルト位またはパラ位に少なくとも1つの水素原子を有するフェノール類と、α位にハロゲン原子を有するカルボニル化合物とを出発原料とするスチルベンジオール類の製造方法において、反応終了後、反応液からスチルベンジオール類の有機溶媒溶液相および水相を含む混合物を調製し、該有機溶媒溶液相から有機溶媒を蒸発させつつ、水相中にスチルベンジオール類を晶析させることを特徴とする方法。
Claim (excerpt):
水酸基のオルト位またはパラ位に少なくとも1つの水素原子を有するフェノール類と、α位にハロゲン原子を有するカルボニル化合物とを出発原料とするスチルベンジオール類の製造方法において、反応終了後、反応液からスチルベンジオール類の有機溶媒溶液相および水相を含む混合物を調製し、該有機溶媒溶液相から有機溶媒を蒸発させつつ、水相中にスチルベンジオール類を晶析させることを特徴とする方法。
IPC (7):
C07C 39/215 ,  B01D 9/02 601 ,  B01D 9/02 610 ,  C07C 37/18 ,  C07C 37/84 ,  C07C 39/367 ,  C07B 61/00 300
FI (7):
C07C 39/215 ,  B01D 9/02 601 J ,  B01D 9/02 610 Z ,  C07C 37/18 ,  C07C 37/84 ,  C07C 39/367 ,  C07B 61/00 300
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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