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J-GLOBAL ID:200903069371069173

悪臭ガスの脱臭方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 萩野 平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999325729
Publication number (International publication number):2001137652
Application date: Nov. 16, 1999
Publication date: May. 22, 2001
Summary:
【要約】【課題】 悪臭ガスが低温であることに起因する脱臭性能の低下を低コストで防止し、1年を通じて安定した脱臭性能をを得ることができる生物脱臭方法を提供する。【解決手段】 充填材を導入した充填層に悪臭ガスを導入し水散布下で生物学的に脱臭する方法において、前記悪臭ガスを10°C以上40°C以下の温度に昇温した後に、前記充填層に導入して悪臭ガスの脱臭を通年的に効率的に行う。前記昇温工程において、悪臭ガスよりも温度の高い別のガス及び/又は悪臭ガスよりも温度の高い工程水を混合することが好ましい。
Claim (excerpt):
充填層に悪臭ガスを導入し水散布下で生物学的に脱臭する方法において、悪臭ガスを10°C以上40°C以下の温度に昇温した後、前記充填層に導くことを特徴とする悪臭ガスの脱臭方法。
IPC (3):
B01D 53/38 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/34 ZAB
FI (2):
B01D 53/34 116 C ,  B01D 53/34 ZAB
F-Term (19):
4D002AA03 ,  4D002AA13 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA12 ,  4D002BA13 ,  4D002BA17 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002DA59 ,  4D002EA02 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB05 ,  4D002GB09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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