Pat

J-GLOBAL ID：200903069378573861

フォトマスク及び露光方法並びに投影露光装置

Inventor： 蛭川 茂 ,  白石 直正 ,  亀山 雅臣
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992006406
Publication number (International publication number)：1993188577
Application date： Jan. 17, 1992
Publication date： Jul. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】 レチクルパターンを高解像度、大焦点深度で投影露光する。【構成】 レチクル1のパターンRP1 に対向するようにそのガラス面に、照明光を回折するための回折格子パターンRG1 を形成し、ここで回折した±1次回折光を、レチクルパターンRP1 のピッチPR に対応した角度だけレチクル1に対して傾けてレチクルパターンRP1 に照射する。【効果】 照明光学系の改良を行うことなく、レチクルパターンに対する傾斜照明が可能となる。

Claim (excerpt)：

所定波長の照明光に対してほぼ透明な基板に形成された周期性のパターン部分を有する微細パターンを感光基板へ転写するために用いられるフォトマスクにおいて、前記微細パターンに対して前記照明光の入射側に所定間隔だけ離して配置された前記照明光を偏向させるための偏向部材を備えたことを特徴とするフォトマスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 投影露光装置用マスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-197457   Applicant：日本電信電話株式会社
• 特開平2-056286