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J-GLOBAL ID：200903069394979576

微小構造体の製造方法

Inventor： ルーカス、ホイスリング ,  ゲールハルト、ホフマン ,  クラウス、ハルト ,  ハルトムート、ヒブスト
Applicant, Patent owner： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
Agent (1)： 田代 烝治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994154515
Publication number (International publication number)：1995188900
Application date： Jul. 06, 1994
Publication date： Jul. 25, 1995
Summary：

【要約】【目的】LIGA法に採用される適当な粘着層が寸法的に安定な基板に、特に簡単な方法で適用できる適当な方法を提供すること。【構成】数μmからミリメートル範囲の構造深さを有し、1層以上の粘着層により寸法的に安定な基板に塗布されるポリマーを、シンクロトロンによる照射により画像形成的に照射し、画像形成的に照射された領域を除去する微小構造体の製造方法であって、ポリマーに接触する最上位の粘着層が炭素、または低原子番号の元素と炭素との化合物を含み、この粘着層が蒸着、陰極スパッタリングまたはプラズマ支持、化学ガス相により寸法的に安定な基板上に蒸着される方法。

Claim (excerpt)：

数μmからミリメートル範囲の構造深さを有し、1層以上の粘着層により寸法的に安定な担体上に塗布されるポリマーを、シンクロトロンによる照射により画像形成的に照射し、画像形成的に照射された領域を除去する微小構造体の製造方法であって、ポリマーに接触する最上位の粘着層が炭素、または低原子番号の元素と炭素との化合物を含み、この粘着層が蒸着、陰極スパッタリングまたはプラズマ支持、化学ガス相により寸法的に安定な担体上に蒸着される製造方法。

IPC (4)：

C23C 14/06 ,  G03F 7/26 ,  H05K 3/38 ,  C25D 1/08